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UV光源UV光清洗灯技术原理

时间:2021-01-07 16:00来源:未知点击:
UV清洁灯的技术是利用有机化合物的光敏氧化作用使UVled固化去除附着在材料表面的有机物。
用UV清洁灯技术清洁后的材料表面可以达到“原子清洁度”指标。 详细的解释是,发出波长为185nm和254nm的光波的UV光源具有很高的能量。 当这些光子作用于要清洁的物体的表面时,由于大多数碳氢化合物具有强的UV,其波长为185nm,具有吸收能力,并且在吸收了波长为185nm的UV后,被分解为离子。,游离态原子,激发分子和中子,这就是所谓的光敏性。

UV光源UV光清洗灯技术原理


空气中的氧气分子在吸收波长为185nm的UV后也会产生臭氧和原子氧。 臭氧对254nm波长的UV(kg)也具有很强的吸收作用,臭氧会分解成原子氧和氧气。 其中,原子氧非常活跃。 在其作用下,物体表面的碳和碳氢化合物的分解产物可以转化为挥发性气体:二氧化碳和水蒸气逸出表面,从而完全清除了附着的物体表面的碳和有机污染物。
目前,国外广泛使用的清洁方法是UVUV清洁。UV胶固化一方面可以避免由于使用有机溶剂造成的污染,而且可以同时缩短清洁过程。 普通石英产生的低压汞的清洁效果远小于合成石英制成的低压汞灯。

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Tag标签:UVLED固化 原子氧 游离态原子 碳氢化合物 UV光源紫外线光清洗 
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